Chemické procesní inženýrství a simulační metody I : teoretické podklady / Tomáš Vaněk, Martin Kohout, Pavlína Basařová
.
Praha :
Vysoká škola chemicko-technologická v Praze,
2021
249 stran
[1, z toho volných 1]
Citace
Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom
jak používáme cookies.