Basket

  Untick selected:   0
  1. Chemické procesní inženýrství a simulační metody I : teoretické podklady / Tomáš Vaněk, Martin Kohout, Pavlína Basařová .  Praha :  Vysoká škola chemicko-technologická v Praze,  2021  249 stran   [1, currently available 1]
    Chemické procesní inženýrství a simulační metody I

  This site uses cookies to make them easier to browse. Learn more about how we use cookies.